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接枝率測定原理-低場核磁技術(shù)
點擊次數(shù):877 更新時間:2022-05-30

接枝率測定原理-低場核磁技術(shù)

納米顆粒表面改性之接枝率測定原理

納米級二氧化硅作為典型的納米顆粒材料具有分散性好,比表面積大,親水性、力學(xué)補強性、增稠性及防粘結(jié)性等特性,廣泛應(yīng)用于電子封裝材料、高分子復(fù)合材料、塑料、涂料、橡膠、顏料、 陶瓷、膠黏劑、玻璃鋼、藥物載體、化妝品及抗菌材料、油墨等領(lǐng)域;

 接枝率測定原理-低場核磁技術(shù)

評價SiO2納米材料表面改性的接枝率測定原理

二氧化硅納米顆粒表面存在大量的不同狀態(tài)的羥基不飽和殘鍵,親水疏油,易于團聚,必須要對其進行功能化改性,以提高性能及應(yīng)用范圍。

接枝率測定原理-低場核磁技術(shù)

二氧化硅表面改性的目的主要有以下3個方面:

一是改善或提高二氧化硅納米顆粒在介質(zhì)中的分散性及相容性。因為表面修飾后的納米顆??梢詼p弱表面活性羥基的帶電效應(yīng)和表面的親水性,所以可以有效防止顆粒團聚;

二是通過表面修飾,在二氧化硅表面接枝活性基團,提高或者控制其表面活性,從而為納米粒子的進一步接枝或者功能化提供了可能性;

三是拓寬二氧化硅納米顆粒的應(yīng)用范圍,表面修飾后的納米顆??梢援a(chǎn)生新的功能,如藥物運輸和釋放,刺激響應(yīng)性等。

低場核磁技術(shù)接枝率測定原理:

LU等科學(xué)家采用多洛倫茲分裂算法將游離PEG的NMR信號與接枝的NMR信號區(qū)分開,從而可以使用1H-NMR對接枝過程進行原位監(jiān)測。低場核磁技術(shù)接枝率測定方法的優(yōu)點是不受接枝基團末端官能團類型、表面化學(xué)性質(zhì)、納米粒子或組成的限制,它還為相關(guān)科學(xué)研究提供表征納米顆粒上基團接枝密度的關(guān)鍵和標(biāo)準(zhǔn)指南。

針對固體顆粒樣品,也可以使用固體核磁技術(shù)通過化學(xué)位移氫譜對接枝率進行定量表征,不過大家都知道固體核磁相對成本較高,對使用者要求較高。

低場核磁技術(shù)接枝率測定方法的優(yōu)勢:

低場核磁技術(shù)因為其設(shè)備成本較低,使用簡單,適用于宏觀樣品等特性,非常適用于快速測定顆粒表面接枝率測定。它通過MSE系列序列實現(xiàn)死時間內(nèi)的1H核磁信號采集,zui大程度的采集到了接枝在顆粒表面的基團中H原子核的信號,利用外標(biāo)法進行定量分析。

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低場核磁

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